◇フォトマスクの製造◇

【ブランクス】
金属薄膜とレジストが塗布されたガラス基板(原材料)

【描画】
電子ビームまたはレーザービームを照射し設計データを描写

【現像】
描写された回路パターンを現像してレジストを除去

【エッチング】
レジスト除去部の金属薄膜をエッチング(触刻)

【レジスト剥離】
洗浄：回路パターン上の不要なレジストを除去し洗浄を実施

【測定・外観検査】
寸法、位置、形状等が設計データと合致しているか検査

【解析・分析】
主にフォトマスク製造プロセス工程において、不良・異常が発生した場合、
その原因を解明・特定する為に、不良・異常個所の解析・分析を行う

【修正】
外観検査で異常を検出した場合は異常個所を修正
(レーザーによる以上部除去、集束イオンビームによる異常部加工)

【ペリクル装着】
異常から保護するため、薄膜(ペリクル)を貼り付け

上記工程のマシンオペレーター業務です。

※試用期間あり(14日間)時給1,380円

【月収例】31万～33万円
【お仕事NO.4688-01】
※ご応募いただく際に、お仕事NO.をお伝えください。
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